涂层产品
宏基高新材料为尖端制造产业， 提供超细颗粒高纯等静压石墨 及 SiC、TaC 涂层整体解决方案.
宏基高新材料为半导体、 光伏、 新能源出行航空航天等、
对极限环境稳定性有严苛要求的领域，研发生产高性能材料产品。
适配多元工艺场景，耐受复杂产业环境，提供性能稳定可靠的CVD涂层整体解决方案
宏基高新材料的 SiC·TaC涂层产品，可适配半导体、第三代半导体、光伏、高温工艺等多元制造环境，凭借优异的耐久性与可靠性，构成高附加值涂层解决方案。
通过与KNJ社开展技术协同，我们成功夯实了以CVD为基础的高耐久性涂层技术体系；该技术应用于EPI、MOCVD、PVT等高端精密工艺场景，实现了设备使用寿命与工艺品质的突破性提升，树立行业技术新标杆.
SiC Coating
(Silicon Carbide)
适配半导体前、后道工艺核心部品的超高水准SiC涂层
- 高纯度 : 半导体工艺污染最小化
- 完全气体不透过性
- 耐等离子体.耐酸化性优秀
- 精密工艺尺寸稳定性性能维持
- 提高设备寿命以及工艺效率
适用部品
- EPI / MOCVD Susceptor
- Focus Ring / Shield Ring
- Liner / Window / Boat
- Etch / CVD / ALD 设备用部件
产品构成册
Susceptor
广泛适用于SiC单晶生长、单晶硅制造及SiC涂层工艺等核心场景
TaC Coating
(Tantalum Carbide)
专为第三代半导体工艺量身打造，完美适配其超高温、高耐久性核心需求，是该领域的优选解决方案。
- 高融点(>3800℃)
- 超高硬度 / 卓越的耐磨性
- 高温.等离子环境下维持稳定性
- 第三代半导体 PVT* SIC 长晶用设备上比较卓越
适用部件
- Power Semiconductor PVT Susceptor
- 高温反应器用部件
- 要求超高耐蚀性. 耐热性的部件
产品构成册
TaC Coating (Tantalum Carbide)
广泛应用于半导体高温工艺、等离子蚀刻设备及CVD工艺的耐蚀涂层体系