石墨
宏基高新材料为尖端制造产业， 提供超细颗粒高纯等静压石墨 及 SiC、TaC 涂层整体解决方案.
宏基高新材料为半导体、 光伏、 新能源出行航空航天等、
对极限环境稳定性有严苛要求的领域，研发生产高性能材料产品。
高纯等静压石墨｜高纯度・高密度・高强度
宏基新材料以石墨产品最高水准的等静压结构为核心，依托卓越的热学、
依托卓越的热学、电学特性，及精密加工稳定性，广泛应用于尖端制造工艺的核心部件。
特征
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高纯度
通过精准控制杂质含量并实施高纯化处理，产品可完美适配半导体工艺严苛要求 -
高密度 & 高强度
采用CIP成形工艺，搭配3000℃石墨化炉处理，确保产品具备超高密度与高强度性能。 -
热稳定性
即便在高温、骤热、急冷的极端环境下，仍能保持优异的耐久性。 -
低热膨胀
在精密工艺场景中，具备极佳的尺寸稳定性。 -
化学稳定性
可稳定适配酸、熔融态物质、碱、金属等多种复杂化学环境。
应用领域
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半导体
- - MOCVD / EPI / ALD 设备
- - 离子注入 · CMP · 刻蚀
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太阳能
- 干锅，热场
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电火花及磨具
- 放电加工电极，高精密磨具
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高温炉
- 高温炉热场，隔热部件，热压模具
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工业及一般用途
- 真空，化学设备用部品，高温治具类
产品构成册
HK500
广泛应用于 光纤制造、工业用高温炉以及单晶制造等领域。
HK550
主要应用于 碳化硅 (SiC) 单晶生长、单晶硅和 SiC 涂层。
HK600
广泛应用于光纤制造、工业用高温炉以及单晶制造等领域。
HK660
应用于碳化硅 (SiC) 单晶生长、单晶硅以及 SiC 涂层等领域。
HK680
广泛应用于 光纤制造、工业用高温炉以及单晶制造等领域。
HK690
主要应用于 碳化硅 (SiC) 单晶生长、单晶硅和 SiC 涂层。